一、500立方工業氣體純化設備原理和用途:
本裝置是以工業普氮為原料，經加氫催化除氧，冷凝和吸附兩級干燥及塵埃過濾，除去氮中的雜質氧、水汽和塵埃顆粒等，從而獲得高純度的氮氣?？蓮V泛用于電子、冶金、化工、浮法玻璃等需要高純氮的工業部門中。
二、500立方工業氣體純化設備工藝流程:
原料氮氣(經原氮進口閥)與添加氫氣(經加氫進口閥，氫氣流量計后)相混合，然后進入除氧器，在催化劑的作用下，使氮氣中雜質氧與氫反應生成水汽，除氧器工作溫度控制在80～100℃，使催化反應生成的水汽能全部被氣體帶走，同時催化劑不致受到水汽影響而中毒，可無需再生處理長期使用。
氮氣除氧后，經過水冷卻器冷卻、冷干機冷凝干燥和汽水分離器除去氣體中冷凝下來的冷凝水。氮氣冷凝除濕后，進入分子篩吸附干燥器深度干燥，產品氮再經氣體過濾器除塵后由純氮出口送使用點。
吸附干燥器由兩組并聯，一組工作，另一組可同時再生。吸附干燥器在常溫下工作，一般至少可在額定氣量下連續工作24小時。吸附干燥器再生時送入部分純氮氣并將吸附器加熱至150℃，恒溫5~8小時，然后讓吸附器吹冷備用。
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